氧化鈦旋轉(zhuǎn)靶采用等離子噴涂工藝制得，尺寸及純度根據(jù)客戶要求定制。
氧化鈦平面靶采用熱壓燒結(jié)工藝制得，一般綁定在銅背板上使用，尺寸及純度根據(jù)客戶要求定制。


純度：99.99%；電阻率（20°C）： ≤ 0.3Ω.cm。
應(yīng)用領(lǐng)域：光學(xué)玻璃鍍膜，LOW-E鍍膜玻璃，薄膜太陽能鍍膜、平板顯示鍍膜、裝飾鍍膜。


詳細(xì)資料點(diǎn)擊下載